Pekka
Laukkanen
yliopistotutkija, materiaalitutkimuksen laboratorio
dosentti, fysiikan ja tähtitieteen laitos
Ota yhteyttä
Asiantuntijuusalueet
pintatiede
puolijohde
pinnan passivointi
ohutkalvot
Julkaisut
Stabilization of unstable and metastable InP native oxide thin films by interface effects (2021)
Applied Surface Science
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Passivation of III-V surfaces with crystalline oxidation (2021)
Applied Physics Reviews
(Vertaisarvioitu katsausartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A2))
Dimer-vacancy defects on Si(1 0 0): The role of nickel impurity (2020)
Applied Surface Science
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Indicating the intensity of a predetermined type of radiation (2020)
(Muu (O2))Ytterbium/Silicon and Ytterbium/Germanium Interfaces: Earliest Stages of Formation (2020)
(Kirjan tai muun kokoomateoksen osa (B2))Decreasing Interface Defect Densities via Silicon Oxide Passivation at Temperatures Below 450 degrees C (2020)
ACS Applied Materials and Interfaces
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Unusual oxidation-induced core-level shifts at the HfO2/InP interface (2019)
Scientific Reports
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Preparation and Characterization of Oxide/Semiconductor Interfaces (2019)
(Vertaisarvioitu artikkeli kokoomateoksessa (A3))INDICATING THE INTENSITY OF A PREDETERMINED TYPE OF RADIATION (2019)
(Muu (O2))Observation of Crystalline Oxidized Silicon Phase (2019)
Advanced Materials Interfaces
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))