Mikko
Miettinen
tohtorikoulutettava (tutkijakoulut), materiaalitutkimuksen laboratorio
väitöskirjatutkija, fysiikan ja tähtitieteen laitos
Ota yhteyttä
Julkaisut
Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: II. Grains, grain boundaries and their structure (2024)
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Structurally simplified GCMO crossbar design for artificial synaptic networks (2024)
Applied Physics Letters
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Dry cleaning of InSb surfaces by hydrogen molecule exposure in ultrahigh vacuum (2024)
Applied Surface Science
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: I. Deposition and growth modes (2024)
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Surface Passivation of Germanium with ALD Al2O3: Impact of Composition and Crystallinity of GeOx Interlayer (2023)
Crystals
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Reversible oxygen-driven c(4 x 4) ↔ (1 x 2) phase transition on the Ba/Ge (100) surface (2023)
Applied Surface Science
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Wet Chemical Treatment and Mg Doping of p-InP Surfaces for Ohmic Low-Resistive Metal Contacts (2023)
Advanced Engineering Materials
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Plasma-enhanced atomic layer deposited SiO2 enables positive thin film charge and surface recombination velocity of 1.3 cm/s on germanium (2023)
Applied Physics Letters
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Properties and modification of native oxides of InP(100) (2023)
Journal of Physics D: Applied Physics
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Effects of Ultrahigh Vacuum Treatments on Wet Chemically Cleaned Si Surfaces (2023)
Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, Solid State Phenomena
(Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa (A4))